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          XRD應(yīng)用分享 | 單晶外延薄膜高分辨XRD表征

          更新時(shí)間:2024-01-10點(diǎn)擊次數(shù):1098

          高分辨率 X 射線衍射 (HRXRD) 是一種強(qiáng)大的無損檢測(cè)方法,其研究對(duì)象主要是單晶材料、單晶外延薄膜材料以及各種低維半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)構(gòu)。普遍用于單晶質(zhì)量、外延薄膜的厚度、組分、晶胞參數(shù)、缺陷、失配、弛豫、應(yīng)力等結(jié)構(gòu)參數(shù)的測(cè)試。現(xiàn)代HRXRD與常規(guī)XRD的區(qū)別主要體現(xiàn)在:(1)高度平行且高度單色的高質(zhì)量X射線;(2)不僅要測(cè)試倒易格點(diǎn)的位置(角度),還要測(cè)試倒易格點(diǎn)的形狀(缺陷);(3)更高的理論要求-動(dòng)力學(xué)理論。GaN做第三代半導(dǎo)體,目前用于電力電子、高頻器件和發(fā)光二極管 (LED) 技術(shù)等眾多應(yīng)用中。本報(bào)告介紹了HRXRD在GaN LED樣品中的應(yīng)用。樣品由 6 層InGaN/GaN 量子阱 (QW) 組成,虛擬 GaN 襯底上生長(zhǎng)在 2 英寸藍(lán)寶石晶片上。文中樣品測(cè)試是在德國(guó)布魯克D8 ADVANCE X射線衍射儀上完成的,該儀器配置了HRXRD模塊。

          2theta/omega掃描

          2theta/omega掃描用于探測(cè)平行于表面的原子層的相干散射,可用于確定In的組分,面外晶胞參數(shù)、厚度等參數(shù)。

          測(cè)試采用Ge(004)單色器,林克斯探測(cè)器0D模式。圖 1 顯示了 GaN (0002) 晶面的 2theta/omega 掃描圖譜,可見明顯的超晶格蕩峰以及超晶格峰之間的薄膜干涉條紋。

          圖 1 GaN (0002) 晶面的 2theta/omega掃描圖譜。

          倒空間強(qiáng)度分布(RSM)

          RSM是直觀的分析薄膜與襯底失配關(guān)系以及薄膜缺陷的方法。傳統(tǒng)的HRXRD上收集一張RSM需要幾個(gè)甚至幾十個(gè)小時(shí)。現(xiàn)實(shí)中往往由于機(jī)時(shí)的限制,很難得到RSM。現(xiàn)代HRXRD利用1D探測(cè)器可以極大提高了測(cè)試速度,快采集一張RSM只需要幾十秒。圖2中,展示了GaN (11-24)晶面的RSM,測(cè)試時(shí)間為30min。 

          圖2 GaN(11-24) 晶面的倒空間強(qiáng)度分布圖(RSM)

          圖2中,RSM 中所有倒格點(diǎn)在面內(nèi)((110)方向)方向在同一位置,表明量子阱多層膜InGaN是在 GaN 襯底上共格晶生長(zhǎng)的。 這與GaN (0002) 晶面高質(zhì)量2theta/omega掃描一致。同時(shí),RSM中GaN倒格點(diǎn)形沿著面內(nèi)展寬,說明界面處缺陷較多。而每個(gè)超晶格倒格點(diǎn)無明顯展寬,說明超晶格之間缺陷較少。 

          2theta/omega 圖譜擬合結(jié)果 

          圖3 GaN (0002) 2theta/omega掃描擬合圖譜。藍(lán)色:擬合值;黑色:測(cè)試值。

          圖3中是 基于表1中的結(jié)構(gòu)模型,對(duì)2theta/omega掃面進(jìn)行全譜擬合的結(jié)果。可見擬合圖譜與測(cè)試數(shù)據(jù)吻合非常好。超晶格峰與擬合值之間的微小偏差可能是由采用的擬合模型未考慮In組分的變化。InGaN 層中的超晶格厚度和In含量都可以非常精確地確定。In的含量是生長(zhǎng)過程中的一個(gè)重要參數(shù)。 因此,HRXRD 是監(jiān)控沉積過程的有力工具。

          表1 GaN (0002) 2theta/omega掃描擬合模型及結(jié)果

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